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產品型號：IBE/RIE干法刻蝕
產品代碼：
產品價格：400000
計量單位：臺
折 扣 率： 0
最后更新：2025-05-13
關 注 度：223
生產企業：成都超邁光電科技有限公司
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產品詳細介紹 超邁光電大口徑刻蝕機主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能，使用氣態化學刻蝕劑與材料產生反應來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發性副產品，通過真空系統排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
刻蝕設備在半導體行業中占據著至關重要的地位，可以實現納米級的精密刻蝕。對復雜微結構的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領域發揮著關鍵作用。
成都超邁光電科技有限公司，為國家高新技術企業、國家標準擬定單位、創新型中小企業、省專精特新企業、新經濟雙百企業，已通過GB/T與GJB雙體系認證。
公司致力于真空鍍膜、等離子刻蝕、人工晶體材料和特殊裝備的技術提升，具有全系列涂層服務裝備和檢測手段，已申請國家專利60余項，授權專利與軟件著作權50余項，擬定國家標準2項，行業標準1項，為中國物理學會固體缺陷專家委員單位，全國電熱裝備標準化委員會單位，已形成工業級、科研級和特殊級三大產品系列，公司在南充高新區(順慶高新區)建有超邁智能產業園，一期已完成3.5萬平方米廠房和配套辦公生活設施建設，具備強大的研發和制造能力。 |
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| 加入時間：2024-03-11
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